研磨抛光机的工作原理详细讲解

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  一般来说,双面研磨抛光机由底座、抛光头、工作台、防护罩/盖、液压系统、电控系统、辅助夹具等基本元件基组成。是在普通抛光机的基础上改进**发展起来的。适用于产量比较大的工厂使用。

  电机是抛光头的动力来源,与抛光辅料构成整个抛光头。抛光辅料紧固在抛光头上,电机电源起动后,通过调节抛光头位置,使抛光辅料与要抛光的物件**接触。抛光过程中加入的抛光液/抛光蜡,可以得到更好的光洁度。可通过固定在工作台上安装水槽、水循环系统等等,达到湿抛的效果。防护罩可以防止抛光过程中物件脱落飞出打到人员,同时在安装上除尘机之后,可以有效消除室内灰尘。

  双面研磨抛光机操作要点:

  双面研磨抛光机操作的关键是要设法得到*大的抛光速率,以便尽快除去磨光时产生的损伤层。同时也要使抛光损伤层不会影响*终观察到的组织,即不会造成假组织。前者要求使用较粗的磨料,以保证有较大的抛光速率来去除磨光的损伤层,但抛光损伤层也较深;后者要求使用*细的材料,使抛光损伤层较浅,但抛光速率低。

  解决这个矛盾的*好的办法就是把抛光分为两个阶段进行。粗抛目的是去除磨光损伤层,这一阶段应具有*大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小;

  其次是精抛(或称终抛),其目的是去除粗抛产生的表层损伤,使抛光损伤减到*小。

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