REFINE TEC双自动抛光机APW-128K 200HV：高精度与智能化的工业研磨解决方案

一、产品概述

REFINE TEC双自动抛光机APW-128K 200HV由日本技术团队研发，专为高精度表面处理需求设计，广泛应用于医疗、食品、生物制药、冶金等领域。该设备通过全自动化操作和智能程序控制，显著提升研磨效率与一致性，成为工业精密加工领域的优选设备。

二、核心技术优势

1. 双模式负载设计

个别负载：支持Φ25.4mm、Φ31.7mm、Φ38.1mm等多种样品尺寸，适配不同实验需求，单次zui多可处理4个独立样品。

整体负载：适用于批量处理，zui大负载达200N，搭配虚拟样品填充功能，确保研磨稳定性。

2.智能化操作系统

配备触摸屏界面，用户可轻松设定10种工艺程序(每个程序包含20个步骤)，支持压力、转速、时间等参数的动态切换。

具备条件自动切换功能，例如在设定压力或转速达到阈值后自动调整参数，优化研磨效果。

3. an全与便捷性

软启动功能避免瞬间压力冲击，延长设备寿命;

蜂鸣器提醒抛光完成，支持操作设置锁定，防止误触;

兼容磨料自动供应装置(需选配)，进一步提升自动化水平。

三、广泛适用领域

APW-128K 200HV凭借其高精度和灵活性，可满足以下场景需求：

医疗与生物产业：手术器械、植入物表面抛光;

食品工业：加工设备部件的光洁度处理;

材料科学：金属、陶瓷等材料的精细研磨与金相分析;

电子制造：半导体元件或精密零件的表面处理。

四、性能参数一览

| 参数项 | 规格详情 |

| 电源输入 | AC100V单相或AC200V三相 |

| 圆盘转速 | 60-580 RPM(可调) |

| 负载范围 | 个别5-30N / 整体30-200N |

| 样品架容量 | zui大支持6孔(Φ25.4mm) |

| an全防护 | 紧急停止开关 + an全罩限位装置 |

五、为何选择APW-128K 200HV?

1. 技术领xian：日本原厂工艺，结合动态分离与精密控制技术，确保纳米级研磨精度。

2. 高效节能：相比传统手动抛光，效率提升50%以上，同时通过程序优化减少能耗。

3. 售后保障：由岩濑商事(深圳)有限公司提供技术支持，覆盖设备安装、培训与维护全周期。