首页 >>> 公司新闻 >

公司新闻

专家诉讼辅助人在**侵权案件审理中的重要作用
前一期“知产视野”刊登了国家**复审委员会王晓东审查员就技术调查官制度撰写的文章，文中提到的“科力远”**侵权纠纷案，系*高人民法院（2011）民申字第1372号民事裁定提起再审后，指定江苏高院再审审理的案件。

       该案涉及复杂技术事实的认定，江苏高院在再审期间，并未采用司法技术鉴定的方式，而是通过采用双方当事人和法庭三方专家诉讼辅助人参与庭审的方式，经过一整天庭审活动，就五个争议技术特征是否构成相同或等同，听取三方6名来自相关学科领域专家的意见，并在此基础上查明技术事实，作出再审判决。

       需要特别说明的是，审查员王晓东以及原国家**复审委员会审查员郭鹏鹏、在江苏高院知识产权庭交流工作期间，均分别参与了该案技术事实的论证，对该案审理提供了重要技术支持。特别是王晓东审查员还具体执笔撰写了再审判决书中涉及技术事实认定以及裁判理由的阐述。正如王晓东审查员在前文中提到的“江苏高院民三庭在**侵权诉讼案件中通过引入代表合议庭的专家证人，以及借调的**复审委员会**审查员完成了技术调查官的工作”，此案尤可说明，在**、技术秘密等侵权案件中，技术专家（技术调查官）直接参与审理工作，以及协调专家诉讼辅助人参与庭审活动，对于技术事实认定和法律适用能够发挥重要作用。

       该案入选2013年中国法院十大知识产权案件。再审判决书计4万余字，本期“知产视野”完整节选了再审事实查明及裁判理由的内容，亦完整地呈现了专家诉讼辅助人意见载入再审判决书的情况，以飨读者。

       【导读】

       “一种海绵状泡沫镍的制备方法”是湖南科力远公司拥有的一项制备大型电池产品的**技术，可用于新能源汽车等多个领域。围绕着爱蓝天公司是否侵犯涉案**权，双方经历了旷日持久的**侵权诉讼，从长沙中院一审判决认定构成侵权，湖南高院二审维持原判，一直到*高法院复查裁定提起再审，并指定江苏高院再审，*终江苏高院再审改判不构成侵权，这其中涉及了诸多各方争议的技术问题和法律问题。

       技术问题方面，主要涉及对磁控溅射技术生产泡沫镍产品中各工序步骤和操作条件的理解以及与相关的被控侵权方法之间的比较，包括基底的选择、电极间距离、本底真空度和工作真空度、电镀时间等具体技术问题。

       法律问题方面，本案涉及了（1）专家诉讼辅助人在**案件审判中的作用以及（2）等同原则的具体适用。本案再审过程中，根据合议庭的要求，除双方当事人申请专家出庭外，合议庭亦指派了专家出庭，就相关技术问题参与庭审调查，并为合议庭查明技术事实作出了重要贡献。

       在等同原则的适用方面，本案尝试在面对复杂技术特征对比并且难于直接判定手段、功能、效果是否基本相同的情况下，给出从整体上把握被控侵权产品与涉案**是否等同的一些考虑因素，包括：（1）从技术上深入剖析区别特征的差异大小，尤其是在数值范围类特征的对比时，差异显著与否可能与现有技术状况、差异的**值大小、以及该特征在整个技术方案中所起的作用等多方面因素有关，并且可以通过寻找参照标准来确定被控侵权方案中的技术特征与涉案**限定条件之间的差异是否显著。例如，本案中在对比真空度时借助了涉案**权利要求中记载的真空度变化范围作为参照标准；（2）将有明确端点的数值范围与离散数值点的等同范围区别对待；（3）在针对制造方法中的参数特征适用等同原则时，需要考虑该参数特征与制造方法中其他操作条件之间的相互关联，尤其是化工方法中，技术特征的选择往往不是孤立进行的，而是与其他条件协同作用，需要综合考虑。

       需要说明的是，在再审中，本案争议的技术特征有5个，*终合议庭根据**法规定的**覆盖原则，选择其中一个技术特征是否落入**权利要求的保护范围进行了评述，*终认定涉案被控侵权技术方案中的“本底真空度及工作真空度”技术特征，与涉案**权利要求记载的“本底真空度和工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，故认定被控侵权的技术方案未落入涉案**权的保护范围，爱蓝天沈阳公司不构成**侵权。

       【裁判要旨】

       **权利要求中有明确端点的数值范围是经过**申请人进行了概括选择之后所确定的范围。一方面，不应当将有明确端点的数值范围之外，并且与该范围差异明显的数值纳入到等同技术特征的范围内。另一方面，在**申请阶段可能导致**无法获得授权的过于宽泛的数值范围，既然其没有记载在授权后的权利要求范围内，如果通过等同特征的方式再将其纳入到**的保护范围内，显然对于公众而言是不公平的。因此对于**所要求保护的技术方案中有明确端点数值范围的技术特征，且属于对现有技术方案进行优化选择而形成的优选技术方案，其适用等同的范围应当受到严格限制。

       【案件信息】

       一审：长沙中院（2008）长中民三初字第0502号

       二审：湖南高院（2010）湘高法民三终字第2号

       再审：江苏高院（2011）苏知民再终字第0002号

       【案情摘要】

       2008年11月3日，湖南科力远新能源股份有限公司（以下简称科力远公司）向湖南省长沙市中级人民法院起诉称，其拥有名称为“一种海绵状泡沫镍的制备方法”的发明**权（**号为95102640.2），爱蓝天高新技术材料（沈阳）有限公司［原名英可高新技术材料（沈阳）有限公司］（以下简称爱蓝天公司）未经许可，为生产经营目的长时间、大规模地使用涉案**方法生产泡沫镍产品并在国内外大量销售，侵犯其发明**权。湖南凯丰新能源有限公司（以下简称凯丰公司）未经许可，为生产经营目的，从爱蓝天沈阳公司处直接购买依照**方法直接获得的产品并生产镍氢电池，亦侵犯其发明**权。请求判令爱蓝天沈阳公司、凯丰公司立即停止侵权；爱蓝天沈阳公司赔偿其经济损失3800万元；爱蓝天沈阳公司、凯丰公司承担全部诉讼费用。

       爱蓝天沈阳公司答辩称，其生产泡沫镍产品的方法未落入涉案发明**权的保护范围。凯丰公司答辩称，其能够提供所使用的泡沫镍产品的合法来源，且对该产品或生产该产品的方法是否侵权并不知情，不应承担赔偿责任。

       【法院认为】

       湖南省长沙市中级人民法院一审认为：科力远公司的涉案**独立权利要求1可拆分为以下14个技术特征：（1）一种海绵状泡沫镍的制备方法；（2）使用经过粗化的聚醚聚氨酯作基底；（3）在镀膜机中，使用磁控溅射方法，形成含金属镍的电镀用阴极；（4）该镀膜机中以纯镍为靶；（5）镀膜机内为氩气气氛；（6）电流密度在（0.1～1.5）×10－2A/cm2范围；（7）溅射时间在20～100S；（8）两电极间距离在10～750px之间；（9）9-1：溅射前抽真空至真空度（0.8～3.5）×10－5毫米汞柱，9-2：充入氩气后真空度为（2～3.5）×10-4毫米汞柱；（10）通电后，在基底表面和孔隙内生长镍；（11）将上述电镀用阴极在含镍离子的电镀液中镀镍；（12）镀镍时间为40～50分钟；（13）将镀镍所得产品水洗干燥；（14）后处理，即在800～900℃下保温1小时，烧掉聚醚聚氨酯基底。其中技术特征（1）系该发明**的技术名称，特征（11）至（14）非涉案**对于现有技术的贡献，无需比较，将被控侵权方法的技术特征与余下的特征相比发现，特征（3）、（4）、（5）、（6）、（7）、（8）、（10）属于相同特征，特征（2）、（9）属于等同特征，因此，被告爱蓝天公司的侵权行为成立。遂判决爱蓝天沈阳公司赔偿科力远公司经济损失人民币24774350元。

       湖南省**人民法院二审认为：一审法院仅比对权利要求1中的第2-10项技术特征，扩大了**权的保护范围，不符合法律规定，本案应就**权利要求1的全部14项技术特征进行比对，以正确判定被控侵权技术方案是否落入涉案**权的保护范围。在此基础上，特征（1）、（3）、（4）、（5）、（6）、（7）、（8）、（10）、（11）、（13）属于相同特征，特征（2）、（9）、（12）、（14）属于等同特征，因此，被告爱蓝天公司的侵权行为成立。遂驳回上诉、维持原判。

       江苏省**人民法院再审查明：

       1、2011年6月29日，中国电池工业协会组织专家张善梅、杨裕生、陈洪渊、黄伯云、谭晓华、王敬忠、王金良召开论证会，并形成“关于ZL95102640.2**技术与英可（现爱蓝天）技术比对的论证意见”。在该论证意见指出“（2）、英可（现爱蓝天）技术采用的工作真空度比‘ZL95102640.2’**要低近一个数量级，这是生产中考虑到成本因素，企业有可能在某些范围内调整，并不涉及**。‘ZL95102640.2’**申请日前，这一真空度已被使用”。

       2、2011年10月26日的再审庭审中，科力远公司聘请的技术专家贺跃辉（中南大学教授、博士生导师）、谭晓华［理想能源（上海）有限公司技术总监、**工程师］，爱蓝天沈阳公司聘请的技术专家吴锦雷（北京大学教授、博士生导师），以及法庭指定的技术专家黄晓华（南京师范大学教授、博士生导师）、梅天庆（南京航天航空大学教授）、宋凤麟（南京大学副教授）等六人对本案再审争议焦点所涉及的技术问题进行了长达**的深入论证。六位技术专家分别为来自物理电子学、粉末冶金、真空镀膜、稀土化学、纳米物理学、金属电沉积领域的**研究人员。庭审过程中，各方技术专家基��各自的专业技术知识对于本案中所涉及的技术问题充分发表了各自的意见，有些争议的问题已达成或接近达成共识；而对于分歧较大、无法达成共识的问题，各方技术专家相互之间也进行了深入的讨论，各自都给出了相对明确的*终意见，并且当事人及专家一致同意由法庭作出*终认定和裁决。本院对各方的主要观点归纳如下：

       （1）关于基底的选择（技术特征2）

       大部分专家认为基底温度的升高或降低取决于其能量的供应和基底材料本身的散热速率，涉案**中降低溅射温度的效果实际上是由其所采用的设备或技术决定的，即由于采用了磁控溅射技术使得溅射过程中能量的供应有所降低，继而在基底材料散热性能接近的情况下，涉案**相对于没有采用磁控溅射的传统工艺获得了降低溅射温度的有益效果。而在采用相同设备或技术例如同时使用磁控溅射的情况下，溅射过程中的能量供应相同，聚醚聚氨酯和聚酯聚氨酯的散热性能差别不大，此时，选用聚醚聚氨酯还是聚酯聚氨酯对溅射温度的降低没有实质影响。

       个别专家认为理论上聚醚聚氨酯结构相对于聚酯聚氨酯更有利于散热，但其在实际中是否如此需要实验数据的支持。

       （2）关于两电极间距离（技术特征8）

       爱蓝天沈阳公司的专家认为**权利要求中电极间距离在数据上与靶基距是相同的，但二者在科学概念上不同。被控侵权方案中的基底不能作为电极，其电极是另外设置的，因此被控侵权方案中的靶基距不是镍靶和基底之间的距离。

       其他专家均认为聚氨酯材料本身不是电极，但其通过溅射形成镍金属膜后可以充当电极，并且爱蓝天沈阳公司专家所称的另外设置的电极实际上是辅助电极。根据爱蓝天沈阳公司在再审申诉状中所给出的示意图2-55可知，由于基底放置在主阳极上，并且厚度较小，因此，两极间距离可以按照镍靶与基底之间的靶基距来计算，二审的认定结论没有实质性错误。

       （3）关于本底真空度和工作真空度（技术特征9）

       除科力远公司专家外，其他各方专家均同意真空度相差一个数量级在数量上属于显著的差别，虽然*终都能够制备得到泡沫镍产品，但此本底真空度以及工作真空度上的差别必然会导致制备工艺条件的选择以及生产成本和生产效率方面存在明显差异。并且，部分专家还认为上述真空度差别对于金属镍在基底表面的沉积特征例如其结晶形式会产生影响，继而影响*终产品的质量。

       但也有专家认为，虽然真空度不同会对溅射膜的结构产生一定影响，但是由于该溅射膜厚度非常小，而之后的电镀层相对要厚得多并且还要经过烧蚀处理，这会使得溅射膜的瑕疵对*终产品质量影响很小。

       （4）关于电镀时间（技术特征12）

       大部分专家认为，虽然电镀工艺的*终效果由多个工艺参数决定，但是在其他条件相同的情况下，电镀时间能够影响泡沫镍电镀的厚度，继而影响*终的面密度。

       也有专家认为，虽然被控侵权的方案中电镀时间与涉案**在数值上有一定的差异，但是不足以说明其对电镀层的质量一定产生实质影响。

       （5）关于后处理步骤（技术特征14）

       各方专家均认为，泡沫镍的后处理过程至少包括氧化和还原两个过程，而涉案**中仅提到“800-900℃保温一小时”一个步骤，撰写上存在瑕疵。

       在此基础上，部分专家认为涉案**仅包括了一个步骤，而被控侵权方案涉及多个阶段，二者是完全不同的内容。

       其他专家认为根据本领域一般的认识，涉案**中800-900℃保温一小时应理解为包含了还原过程，但由于无法将被控侵权方案中的保温时间与涉案**分阶段有效对比，因此没办法确定二者是否产生了基本相同的效果。

       江苏省**人民法院再审认为：

       《*高人民法院关于审理**纠纷案件应用法律若干问题的解释》第七条规定，**侵权是指被控侵权的技术方案包含了与某项**权利要求记载的全部必要技术特征相同或等同的技术特征。在**侵权诉讼中，如果被控侵权的技术方案有一个或一个以上的技术特征与涉案**要求保护的必要技术特征既不相同也不等同的，则不认为其构成**侵权。而《*高人民法院关于审理**纠纷案件适用法律若干问题的解释》第十七条规定，等同特征是指与**权利要求记载的技术特征以基本相同的手段，实现基本相同的功能，达到基本相同的效果，并且本领域的普通技术人员无需经过创造性劳动就能够联想到的特征。

       对照上述规定，本院认为，现有证据足以证明涉案被控侵权技术方案中的“本底真空度及工���真空度”技术特征与涉案**权利要求记载的“本底真空度和工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，能够满足上述**法司法解释所规定的**侵权判定的相关要求，故被控侵权的技术方案未落入涉案**权的保护范围，爱蓝天沈阳公司不构成**侵权。具体理由分析如下：

       首先，被控侵权技术方案中的本底真空度及工作真空度分别为2×10-2Pa、（2.0～3.0）×10-1Pa，而涉案**要求保护的本底真空度及工作真空度分别为（1.1～4.7）×10-3Pa、（2.7～4.7）×10-2Pa，两者相差一个数量级（10倍），明显不相同。

       其次，在本案所属技术领域中，真空蒸发、溅射镀膜和离子镀等常被称为物**相沉积技术，这是本领域中基本的薄膜制作技术。它们均要求沉积薄膜的空间要有一定的真空度。因此，真空技术是薄膜制作技术的基础，获得并保持所需的真空环境是镀膜的必要条件，真空度大小在此类工艺过程中属于重要的工艺参数。具体言之：

       对于本底真空度而言，其抽真空的目的是减少真空室中残余气体（甚至除去真空室壁和真空室中其它零件上可能存在的吸附气体），从而减少沉积到基片上杂质含量，提高沉积薄膜的纯度。本底真空度越高，溅射薄膜的纯度越高，但另一方面，其对抽真空的动力源，设备的承压能力和密封性能等要求都有相应的提高，并且由于提高真空度需要耗费更长的时间，其生产效率可能也会有所降低。本案中，虽然均属高真空度范围，但本底真空度由涉案**权利要求中的（1.1～4.7）×10-3Pa降低到2×10-2Pa，相差一个数量级（大约10倍左右），相对于权利要求对本底真空度所限定的变化范围（即在10-3Pa数量级上由1.1变化到4.7，大约4倍的压力变化），大约10倍的压力变化应属于明显差异。因此，一方面，在没有直接证据显示这样的变化不会引起真空室内杂质含量的变化进而影响溅射膜纯度的情况下，不应当认为在溅射膜纯度方面二者能够达到基本相同的效果；另一方面，涉案**相对于被控侵权技术方案的压力变化达到10倍，必然会对抽真空动力源、设备的承压能力等提出更高的要求，并且需要更长的操作时间，因此，在这些方面也不能认定涉案**与被控侵权技术方案达到了基本相同的效果。

       对于工作真空度而言，其是在本底真空度的基础上通过充入氩气而获得的工作状态下的真空度数值。众所周知，磁控溅射的工作原理是：电子e在电场E作用下，在飞向基板过程中与氩原子发生碰撞，使其电离出Ar+和一个新的电子e，电子飞向基板，Ar+在电场作用下加速飞向阴极靶，并以高能量轰击靶表面，使靶材发生溅射，在溅射粒子中中性的靶原子或分子则沉积在基板上形成薄膜。可见，氩气在此过程中除了充当惰性气体保护镍材料不被氧化以外，还充当重要的溅射原子参与磁控溅射过程。由于工作真空度大小关系到工作状态下真空室中存在氩气多少，这会影响电子和氩气碰撞形成电离的几率，进而影响溅射所需的氩离子的密度，影响溅射效率。也就是说，在一定范围内，工作真空度越低（如被控侵权技术方案中的工作真空度），其中充入的氩气越多，相同条件下电子与氩气碰撞形成电离的几率越大，溅射的效率越高。本案中，工作真空度由**权利要求中的（2.7～4.7）×10-2Pa（高真空度）降低到（2.0～3.0）×10-1Pa（中真空度），相差一个数量级（大约10倍左右），相对于权利要求对工作真空度所限定的变化范围（即在10-2Pa数量级上由2.7变化到4.7，大约2倍的压力变化），大约10倍的压力变化应属于明显差异。因此，在没有直接的证据表明此大约10倍的压力变化不会影响溅射效率的情况下，不应认定涉案**与被控侵权技术方案达到了基本相同的效果。

       综上，由于本底真空度以及工作真空度的作用和/或效果在本案所涉及的磁控溅射过程中并不单一，并且各种作用和/或效果之间也会存在相互影响，例如本底真空度升高虽然能够提高溅射膜纯度，但相应的对抽真空能力以及设备承压能力等要求更高，而生产效率会有所下降，并且更重要的是无法对这些升高或降低进行定量比较。因此，在目前证据的基础上不能直接认定不同的本底真空度和工作真空度所产生的整体效果基本相同，也不宜简单地认定被控侵权技术方案的低真空度相对于权利要求的高真空度是变劣的技术方案。

       再次，对于磁控溅射过程中所涉及的各种参数条件（包括电流密度、溅射时间、电极距离、本底真空度、工作真空度等），虽然其都是现有技术中曾经提到过或者是从现有技术大范围中选择出的小范围，但是，这些工艺参数并不是孤立存在的，为了获得*终的期望溅射效果，通常需要结合具体操作条件，例如溅射基底的材质，磁控溅射装置的类型等，综合调整各个工艺参数，这样的工艺条件的选择是一个动态的过程，需要在设计人员精心计算的基础上进行大量的具体实验才能确定出合适的参数范围，并且这些参数范围都是配套使用的，例如对于被控侵权技术方案在使用聚酯聚氨酯作为基底的情况下，使用相应的较低的真空度；而涉案**权利要求中则针对聚醚聚氨酯采用相对较高的真空度。因此，这些参数已经由现有技术中供所有人员参考选择的公开属性转变为专用于某种特定对象的专有属性。另外，从**申请人在授权程序中所作的相关意见陈述内容及科力远公司代理人于庭后提交的代理词的相关内容来看，涉案**的磁控溅射工艺条件均系**申请人花费许多心血进行创造性活动，经过反复实验得出的能体现其创造性的发明内容，是**申请人经过创造性劳动从现有工艺条件（即现有技术）中优选出的技术方案。而被控侵权技术方案中所采用的本底真空度和工作真空度则系本领域普通技术人员无需创造性劳动即可从现有技术中轻易得到的技术方案。因此不能轻易地以两者间可能存在简单联想来主张等同特征的适用。

       *后，涉案**权利要求中本底真空度和工作真空度是有明确端点的数值范围，与权利要求中其他具体的技术特征（例如聚醚聚氨酯特征）不同，有明确端点的数值范围是经过**申请人进行了概括选择之后所确定的范围。一方面，根据**法的原理，**申请人在撰写权利要求保护范围的过程中会在客观条件的限制下以及在法律允许的情况下尽*大可能要求其保护范围，权利要求书中未经修改的数值范围是**权人自主选择的结果，该数值范围以外的内容应当视为**权人认为不能或不应得到**保护的内容，因此，不应当将有明确端点的数值范围之外，并且与该范围差异明显的数值纳入到等同技术特征的范围内。另一方面，在**的审查过程中，**行政管理部门是在申请人撰写的包括端点明确数值范围的权利要求的基础上，认为其符合**法及其实施细则的有关规定，从而授予其**权的。如果申请人在**申请时要求保护一个过于宽泛的数值范围，则可能由于此范围所限定的技术方案包括了与现有技术相同或相似的内容从而不具备新颖性、创造性而得不到授权，或者可能由于此范围的概括超出了说明书具体公开的范围从而得不到说明书的支持而不能获得授权。这些在申请阶段可能导致**无法获得授权的过于宽泛的数值范围，既然其没有记载在授权后的权利要求范围内，但如果通过等同特征的方式再将其纳入到**的保护范围内，显然对于公众而言是不公平的。因此，对于权利要求中端点明确的数值范围，其等同特征的范围应当相对狭窄，即应当严格控制等同原则的适用，尤其是与权利要求所限定范围差异明显的技术特征。正如前述，本案被控侵权方案中的本底真空度和工作真空度均系本领域普通技术人员无需创造性劳动即可从现有技术中轻易得到的技术方案、涉案**的本底真空度和工作真空度的技术特征系**申请人从现有技术方案中优选出来的技术方案，故不应再将**申请人未写入权利要求的现有技术方案纳入到等同特征的范围内，以防止权利人不当侵占公众利益的空间。

       综上所述，本案中因被控侵权技术方案中的“本底真空度以及工作真空度”技术特征与涉案**权利要求记载的“本底真空度以及工作真空度”必要技术特征既不相同也不等同，因此被控侵权技术方案未落入涉案**权的保护范围，爱蓝天沈阳公司使用该技术方案未侵犯科力远公司的涉案**权。有鉴于此，本院认为，对于双方当事人争议的其他技术特征是否相同或等同已无需再予理涉。原审判决认定事实清楚，但适用法律不当，应予纠正。

       再审改判：

       1、撤销一、二审判决；

       2、驳回科力远公司的诉讼请求。

       再审合议庭：宋健  施国伟 袁滔

原作者: 王晓东|来自: 江苏高院

上一篇：微软、IBM和ARM开放**数据库
下一篇：卖** 不做手机的诺基亚这样挣钱